一、應用領域

石英石墨干鍋太陽能硅片清洗、拉晶切片用水、硅材料清洗用水、制取電子工業生產如單晶硅、半導體、集成電路塊、IC芯片封裝、顯象管、玻殼、液晶顯示器、光學、光電、熱電廠、冶金、化工等

二、工藝流程

1、一級反滲透+混床（出水2---15mΩ.cm）

原水箱—原水泵—全自動全自動多介質過濾器—全自動活性炭過濾器—全自動軟水器→保安過濾器→高壓泵—反滲透主機→純水箱—純水泵→陰陽離子交換混床→微孔過濾器—儲水罐→純水輸送泵→用水點

2、一級反滲透+EDI系統（出水5---15mΩ.cm）

原水箱→原水泵→全自動多介質過濾器→全自動活性炭過濾器→全自動軟水器→保安過濾器→高壓泵→反滲透主機→純水箱—EDI系統→儲水罐→純水輸送泵→用水點

3、二級反滲透+EDI系統（出水18mΩ.cm）

原水箱—原水泵→全自動多介質過濾器→全自動活性炭過濾器→全自動軟水器→保安過濾器→一級高壓泵→級反滲透主機→PH調節→二級級高壓泵→二級反滲透→純水箱→脫氣裝置→微孔過濾器→EDI系統→拋光混床系統—儲水罐→純水輸送泵→用水點

三、出水標準

符合美國ASTM標準、符合《中國電子行業超純水國家標準》GB/T1146.1-1997

（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）

四、訂貨須知

具體的設備處理量、出水標準、設備材質、尺寸及電器控制等，我公司將會提供給您詳細的方案說明。

溫馨提示：水處理設備的要求需要了解幾點內容：

1、純水的產水量（按每小時計算）

2、純水要求的水質（例如多少兆歐）

3、原水進水水質是什么水（例如自來水，地表水，深井水）

4、制作純水的工藝（工藝不一樣價格也不一樣）

5、用于生產什么產品（例如電池片，蓄電池，玻璃行業，化妝品行業，化工行業等）

6、配置的品牌及控制方式（PLC自動控制，手動控制）型號和數量等。