絕緣膜技術資料-絕緣性二氧化鈦-絕緣膏體-絕緣體覆膜-制備絕緣薄膜-絕緣膜聚酯類資料（268元/全套）選購時請記住本套資料（光盤）售價：268元；資料（光盤）編號：F150295
敬告：我公司只提供技術資料，不能提供任何實物產品及設備，也不能提供生產銷售廠商信息。
《絕緣膜資料》包括專利技術全文資料272份。
0001)半導體裝置的絕緣膜形成方法及半導體裝置

0011)感光絕緣膏和厚膜多層電路基片
0012)表面覆有無機半導體納米薄膜的瓷或玻璃絕緣子
0013)薄膜電容元件用組合物、高電容率絕緣膜、薄膜電容元件和薄膜疊層電容器
0014)絕緣膜研磨劑組合物及半導體集成電路的制造方法
0015)在具有圖形的絕緣硅基襯底上制作硅薄膜的方法
0016)絕緣膜半導體裝置及方法
0017)將電荷俘獲在絕緣膜內非易失性地存儲信息的存儲器
0018)一種層間絕緣膜受到保護的半導體器件和制作方法
0019)光敏厚膜介電糊料組合物及使用該物質制造絕緣層的方法
0020)用于制備絕緣薄膜的涂料組合物
0021)低介電常數絕緣膜及其形成方法,以及使用它的電路
0022)電池絕緣隔膜及其生產方法
0023)放射線敏感性樹脂組合物、層間絕緣膜及微透鏡以及它們的制備方法
0024)包含多層柵絕緣體的有機薄膜晶體管
0025)低介電常數絕緣介質α－SiCOF薄膜及其制備方法
0026)高介電常數絕緣膜、薄膜電容元件、薄膜疊層電容器及薄膜電容元件的制造方法
0027)一種厚膜絕緣層上硅材料的制備方法
0028)無機—有機纖維混抄紙與聚酯薄膜絕緣復合材料
0029)漏電流少且絕緣耐壓高的薄膜電容器的形成方法
0030)具有元件分離絕緣膜的半導體裝置的制造方法
0031)具有漏極延伸區的橫向薄膜硅絕緣體(SOI)PMOS器件
0032)柵極絕緣膜的形成方法、存儲介質、計算機程序
0033)多層復合電容器絕緣薄膜
0034)絕緣膜的制造方法及半導體器件的制造方法
0035)使用低介電常數絕緣層的薄膜晶體管襯底及其制造方法
0036)清漆、成型物、電絕緣膜、層壓物、阻燃劑淤漿以及阻燃劑粒子和清漆的制造方法
0037)三層復合膜絕緣柵的有機薄膜晶體管及其制備方法
0038)包含鍺的硅氧烷基樹脂和使用該樹脂的半導體器件用間層絕緣膜
0039)使用硬掩膜金屬絕緣體金屬電容器的形成
0040)用于半導體器件的絕緣膜沉積方法
0041)硅氧烷基的樹脂和使用其制造的半導體器件的層間絕緣膜
0042)多孔膜形成用組合物、多孔膜及其制造方法、層間絕緣膜和半導體裝置
0043)地熱電熱膜絕緣防水專用電纜
0044)放射線敏感性樹脂組合物、層間絕緣膜和微透鏡、以及它們的制備方法
0045)激光退火多晶硅薄膜晶體管柵絕緣層的制備方法
0046)一種電工絕緣膜聚酯切片的制備方法
0047)低介電常數絕緣膜的制造
0048)半導體器件用的絕緣薄膜
0049)非取向型電磁鋼板的制備方法及所用的絕緣膜形成劑
0050)光學薄膜厚度控制方法及裝置,絕緣多層薄膜及制造裝置
0051)具有不含鉻的絕緣皮膜的取向電磁鋼板及其絕緣皮膜劑
0052)導電蓋子、電子部件和形成導電蓋子的絕緣薄膜的方法
0053)厚膜電路用絕緣介質漿料
0054)用于形成絕緣膜的涂料組合物,用此涂料組合物涂覆的未取向電工鋼板,以及在該鋼板上形成該絕緣膜的方法
0055)形成含硅絕緣膜的CVD方法和裝置
0056)絕緣膜組合式高聚物壓電傳感器
0057)在硅基底中形成絕緣膜的方法
0058)絕緣膜的形成方法
0059)一種厚膜圖形化絕緣體上的硅材料的制備方法
0060)薄膜絕緣感溫探頭及在測定卷煙燃燒時內部溫度上的應用
0061)介電常數降低的改進二氧化硅絕緣膜及其形成方法
0062)帶有不同硅厚度的絕緣膜上硅裝置
0063)具有附加源/漏絕緣層的共面薄膜晶體管
0064)含高介電常數絕緣膜的半導體設備和該設備的制造方法
0065)絕緣膜、半導體器件及其制造方法
0066)絕緣膜形成用組合物和其制法及二氧化硅系絕緣膜和其形成法
0067)用犧牲可流動氧化物雙嵌埋形成多共面金屬/絕緣膜的方法
0068)電解電容器鋁殼體絕緣膜的涂覆方法
0069)含有有機硅烷、有機硅氧烷化合物形成的絕緣膜用材料、其制造方法和半導體器件
0070)層間絕緣膜、布線結構以及它們的制造方法
0071)用于形成有機絕緣薄膜的組合物和由這種組合物形成的有機絕緣薄膜
0072)貯存用于形成半導體器件用夾層絕緣膜的涂布溶液的方法
0073)絕緣用玻璃組合物，絕緣糊料和厚膜印刷電路
0074)薄膜電容元件用組合物、高介電常數的絕緣膜、薄膜電容元件、薄膜積層電容器、電路和電子儀器
0075)薄膜電容元件用組合物、高電容率絕緣膜、薄膜電容元件和薄膜疊層電容器
0076)全消光彩色絕緣聚酯薄膜及其生產工藝
0077)用于形成有機絕緣膜的光敏樹脂組合物和使用該組合物的設備
0078)一種廣義的絕緣體上半導體薄膜材料及制備方法
0079)一種能與絕緣層牢固結合的電熱膜
0080)場絕緣膜上表面平坦的半導體器件及其方法
0081)具有柵電極和場板電極的橫向薄膜絕緣體上硅器件
0082)具有絕緣體覆膜層載持電極的氣體激勵裝置及氣體激勵方法
0083)有機絕緣膜、其制造方法、使用該有機絕緣膜的半導體器件及其制造方法
0084)形狀記憶合金表面原位制備絕緣膜
0085)一種新型快速光電響應材料金屬/絕緣體嵌埋團簇膜及制備
0086)無機陶瓷纖維紙和聚酯薄膜復合絕緣材料
0087)深溝側壁擴散和電絕緣薄膜填充制造壓阻加速度傳感器
0088)評價用于半導體裝置的絕緣膜的特性的方法以及形成該絕緣膜的方法
0089)一種聚酰亞胺薄膜超導帶材絕緣結構制作方法及裝置
0090)絕緣膜形成方法及基板處理方法
0091)具有含氮柵絕緣膜的半導體器件及其制造方法
0092)層間絕緣膜及其形成方法以及聚合物組合物
0093)有機無機混合絕緣膜的形成方法
0094)結晶玻璃合成物、結晶玻璃、絕緣合成物、絕緣膏以及厚膜電路板
0095)含有電路元件和絕緣膜的半導體模塊及其制造方法以及其應用
0096)絕緣膜以及半導體器件的制造方法
0097)絕緣材料、薄膜、電路基板和它們的制造方法
0098)具有連接的金屬結構的電絕緣表面的鍍膜方法
0099)帶有構圖熒光粉結構的電致發光疊層和帶有改進絕緣特性的厚膜絕緣材料
0100)制造具有絕緣性能提高的氮化膜的半導體器件的方法
0101)生成加氟絕緣薄膜的方法
0102)具有低介電常數絕緣膜的半導體器件及其制造方法
0103)含有機硅烷化合物的絕緣膜用材料及其制法及半導體裝置
0104)TFT(*)具有微孔膜的合成絕緣材料
0106)有機硅酸鹽聚合物和包含該有機硅酸鹽聚合物的絕緣薄膜
0107)形成多孔膜的組合物,多孔膜和其制備方法,層間絕緣膜和半導體器件
0108)玻璃基片表面絕緣性二氧化鈦納米薄膜的制備方法
0109)可濕式蝕刻的疊層體、絕緣薄膜及使用其的電子電路部件
0110)聚酰亞胺與改性聚四氟乙烯組成的薄膜繞包絕緣高溫電線
0111)基底絕緣膜的形成方法
0112)通過電子束輻射制作絕緣膜線路圖形的方法
0113)形成絕緣性能改進的絕緣膜的方法
0114)絕緣襯底上制備高質量半導體晶體薄膜的方法
0115)包括絕緣膜的半導體器件及其制造方法
0116)用于在半導體器件的諸金屬布線之間形成絕緣薄膜的方法
0117)ZnO為電絕緣與雜質阻擋層的薄膜太陽電池及其制備方法
0118)含有機硅烷化合物的絕緣膜用材料及其制法及半導體裝置
0119)有機絕緣體組合物、有機絕緣膜、有機薄膜晶體管和電子設備以及形成這些產品的方法
0120)有機絕緣膜的蝕刻方法和雙波紋處理方法
0121)絕緣膜成膜用原料及使用該原料的成膜方法
0144)具有柵極絕緣膜的半導體裝置及其制造方法
0154)具有熱絕緣層的薄膜相變化單元及其制造方法
0155)漸變密度的納米孔絕緣薄膜及其制法
0156)在襯底上電沉積具有最小邊緣隔絕的均勻薄膜的方法和設備
0157)高分子材料的合成方法、高分子薄膜的形成方法以及層間絕緣膜的形成方法
0158)用于透明絕緣膜的糊料和其制造方法、等離子顯示板和其制造方法
0159)用于介電絕緣膜的涂料組合物以及由其制備的介電絕緣膜和包括該絕緣膜的電氣或電子裝置
0160)撓性印刷電路絕緣薄膜的化學蝕刻法及其蝕刻液
0161)絕緣膜成形方法、絕緣膜成形裝置和等離子體膜成形裝置
0162)印刷電路板、半導體封裝、基底絕緣膜以及互連襯底的制造方法
0163)制造薄膜晶體管液晶顯示器的絕緣薄膜的組合設備
0164)低介電常數絕緣介質氧化硅薄膜及其制備方法
0165)絕緣防電暈多功能薄膜及其制備方法
0166)薄膜電容元件用組合物、高介電常數絕緣膜、薄膜電容元件、薄膜積層電容器及薄膜電容元件的制造方法
0167)乙烯(*)光學薄膜厚度控制方法及裝置，絕緣多層薄膜及制造裝置
0169)硅氧烷基樹脂及用其制造的半導體的層間絕緣膜
0170)在絕緣膜上設置開口部的分析用具
0171)耐熱絕緣云母薄膜及其制造工藝
0172)分子取向得以控制的有機絕緣薄膜及使用它的粘結薄膜、撓性金屬包層層合板、多層撓性金屬包層層合板、保護模、TAB用帶、 COF用硬紙板
0173)耐熱性樹脂的預聚體,耐熱性樹脂,絕緣膜和半導體裝置
0174)固化性樹脂組合物和層間絕緣膜
0175)絕緣體上硅薄膜晶體管
0176)特厚絕緣單玻璃絲薄膜漆包鋁圓線
0177)柵極絕緣膜的形成方法、半導體裝置和計算機記錄介質
0178)金屬高溫絕緣膜
0179)在涂覆形成的夾層絕緣膜上具有透明導電膜的液晶顯示器
0180)低電介絕緣層的汽相淀積方法、利用該低電介絕緣層的薄膜晶體管及其制造方法
0181)絕緣膜形成用涂料及用該涂料的等離子顯示板的制造方法
0182)用于夾層絕緣膜的光敏組合物及形成帶圖形夾層絕緣膜的方法
0183)一種制備絕緣膜和顯示器的射線敏感組合物
0184)輻射敏感樹脂組合物，形成有圖案絕緣膜的形成方法，裝配有該膜的有源矩陣板和平板顯示設備，和生產平板顯示設備的方法
0185)光學薄膜厚度控制方法及裝置,絕緣多層薄膜及制造裝置
0186)制備絕緣體上鍺硅薄膜材料的方法
0187)感放射線性樹脂組合物、層間絕緣膜和微透鏡及其形成方法
0188)使用共混溶液形成半導體層和絕緣層而制備底柵薄膜晶體管的改進方法
0189)雙軸取向薄膜疊層板、電絕緣板和機器部件
0190)薄膜電容元件用組合物、高介電常數絕緣膜、薄膜電容元件、薄膜積層電容器及薄膜電容元件的制造方法
0191)絕緣膜的制造裝置
0192)放射線敏感性樹脂組合物、層間絕緣膜和微透鏡的形成
0193)形成層間絕緣膜用的射線敏感性樹脂組合物和層間絕緣膜
0194)用以形成半導體裝置的中間層絕緣薄膜的方法
0195)沸石溶膠及其制法、多孔膜形成用組合物、多孔膜及其制法、層間絕緣膜和半導體裝置
0196)在絕緣膜上形成凹狀圖形的半導體裝置及其制造方法
0197)賦予張力性絕緣皮膜的粘合性優異的單取向硅鋼板及其制造方法
0198)能用低介電常數非晶氟化碳膜作為層間絕緣材料的半導體器件及其制備方法
0199)制造光敏絕緣膜圖案和反射電極及其液晶顯示器的方法
0200)復合式絕緣體上硅薄膜基片及其制作方法
0201)具有改善的機械特性的絕緣膜合成物
0202)變壓器絕緣膜結構
0203)具有金屬－絕緣膜－半導體三層結構的晶體管的制造方法
0204)分割鐵芯的薄膜槽絕緣結構
0205)形成絕緣膜的方法和制造半導體器件的方法
0206)基底絕緣膜的形成方法
0207)具有半絕緣性氧化鋅半導體薄膜與硅的異質結的光敏二極管
0208)形成多孔膜的組合物、多孔膜及其形成方法、層間絕緣膜和半導體器件
0209)半導體裝置的層間絕緣膜的形成方法
0210)形成半導體器件的層間絕緣膜的方法
0211)電池以及引線絕緣膜
0212)氧化硅膜、其制備方法以及具有使用其的柵極絕緣膜的半導體器件
0213)具有鐵電膜作為柵極絕緣膜的半導體器件及其制造方法
0214)采用陽極處理工藝使電解電容器鋁殼體披覆絕緣膜的方法
0215)用于半導體裝置中的絕緣膜和半導體裝置
0216)檢測絕緣膜的方法和裝置，對其打孔的裝置及控制方法
0217)絕緣材料表面化學制備高電導率聚吡咯薄膜的方法
0218)形成絕緣膜的方法
0219)放射線敏感性樹脂組合物、層間絕緣膜和微透鏡以及它們的形成方法
0220)30路薄膜電容器絕緣電阻測試儀
0221)絕緣膜材料、多層互連結構及其制造方法和半導體器件的制造方法
0222)具有良好焊接性能的電絕緣覆膜的電工鋼板
0223)電絕緣性膜襯里
0224)絕緣膜上硅（SOI）晶片上接觸區的制造方法
0225)用于制造絕緣薄膜的烷氧基硅烷/有機聚合物組合物及其用途
0226)評價用于形成絕緣膜的硅氧烷的方法、形成絕緣膜的涂布液及其制備、半導體器件用絕緣膜成型方法以及采用絕緣膜成膜法制備半導體器件的方法
0227)絕緣膜形成材料,絕緣膜,形成絕緣膜的方法及半導體器件
0228)絕緣膜的蝕刻方法
0229)用于壓電式作用力或壓力傳感器的、通過電絕緣膜固定在一起的部件
0230)具有絕緣皮膜的電磁鋼板
0231)生產絕緣膜的涂料組合物、使用該涂料組合物制備絕緣膜的方法、由其得到的用于半導體器件的絕緣膜及含有該絕緣膜的半導體器件
0232)絕緣柵薄膜晶體管及其控制系統
0233)絕緣導電顆粒以及包含該顆粒的各向異性導電膠膜
0234)地熱電熱膜專用快速插接式絕緣防水電纜
0235)低介電常數絕緣膜形成用材料、低介電常數絕緣膜、低介電常數絕緣膜的形成方法及半導體器件
0236)絕緣導電顆粒以及包含這種顆粒的各向異性導電薄膜
0237)形成半導體基體上的絕緣膜的方法
0238)光敏樹脂組合物及由其制備的有機絕緣膜
0239)電氣絕緣膠帶、其背膜及其背膜制法
0240)射線敏感性樹脂組合物、層間絕緣膜和微透鏡以及它們的形成方法
0241)絕緣基材的原料、印刷電路板、層壓板、附著樹脂的銅箔、鍍銅層壓板、聚酰亞胺薄膜、用于 T A B的薄膜和半固代片
0242)輻射敏感性樹脂組合物、層間絕緣膜和微透鏡以及它們的制備方法
0243)絕緣薄膜
0244)TFT LCD陣列基板結構及非保形絕緣薄膜形成方法和應用
0245)薄膜電容元件用組合物、絕緣膜、薄膜電容元件和電容器
0246)半導體集成電路用絕緣膜研磨劑組合物及半導體集成電路的制造方法
0247)非取向型電磁鋼板、其制備方法及所用絕緣膜形成劑
0248)有機絕緣體、包含它的有機薄膜晶體管陣列面板及其制法
0249)在基板上形成絕緣膜的方法、半導體裝置的制造方法和基板處理裝置
0250)覆襯絕緣塑膠膜的金屬外殼燈頭
0251)耐電暈特性優異的薄膜及以該薄膜作為絕緣材料的絕緣電線、繞組和電動機
0252)一種電池用絕緣薄膜材料的制備方法
0253)新穎的硅氧烷基樹脂和使用該樹脂形成的間層絕緣膜
0254)用于電容式麥克風的整體式絕緣膜環
0255)絕緣膜刻蝕裝置
0256)耐熱絕緣膜和絕緣方法
0257)多孔膜形成用組合物,多孔膜的制備方法,多孔膜、層間絕緣膜和半導體器件
0258)電容絕緣膜及其制造方法、電容元件及其制造方法和半導體存儲裝置及其制造方法
0259)有機硅酸酯聚合物和從其得到的絕緣膜
0260)絕緣膜的形成方法和半導體裝置的制造方法
0261)有機硅酸鹽聚合體和含有該有機硅酸鹽聚合體的絕緣膜
0262)形成有機絕緣膜的組合物及用其形成有機絕緣膜圖案的方法
0263)含低介電常數絕緣膜的半導體裝置的制造方法
0264)具有金屬絕緣體轉換膜電阻器的半導體存儲器件
0265)形成絕緣膜的組合物以及制造半導體器件的方法
0266)電絕緣性膜襯里
0267)光敏絕緣膠組合物及用其制成的感光膜
0268)沉積方法、沉積設備、絕緣膜及半導體集成電路
0269)絕緣膜氮化方法、半導體裝置及其制造方法、基板處理裝置和基板處理方法
0270)抗輻射薄膜繞包絕緣安裝線
0271)改進了高溫下收縮性的雙軸取向絕緣膜
0272)放射線敏感性樹脂組合物、層間絕緣膜及微透鏡的形成



查詢更多技術請點擊：
中國創新技術網（http://www.887298.com）
金博專利技術網（http://www.39aa.net）

金博技術資料網（http://www.667298.com）
購買操作說明（點擊或復制）（http://www.39aa.net/index.php?gOo=help_send.dwt）

本部（遼寧日經咨詢有限公司技術部）擁有各種專利技術、技術文獻、論文資料近20萬套500多萬項，所有專利技術資料均為國家發明專利、實用新型專利和科研成果，資料中有專利號、專利全文、技術說明書、技術配方、技術關鍵、工藝流程、圖紙、質量標準、專家姓名等詳實資料。所有技術資料均為電子圖書（PDF格式，沒有錄像及視頻），承載物是光盤，可以郵寄光盤也可以用互聯網將數據發到客戶指定的電子郵箱（網傳免收郵費）。
(1)、銀行匯款：本套資料標價(是網傳價，不包含郵費，如郵寄光盤加收15元快遞費，快遞公司不能到達的地區加收22元的郵政特快專遞費)匯入下列任一銀行帳號（需帶身份證），款到發貨！
中國農業銀行:9559981010260269913    收款人: 王雷
中國郵政銀行:602250302200014417     收款人: 王雷
中國建設銀行：0600189980130287777   收款人: 王雷
中國工商銀行:9558800706100203233    收款人: 王雷
中國    銀行：418330501880227509    戶  名：王雷
歡迎通過淘寶、有啊、拍拍等第三方平臺交易，請與QQ：547978981聯系辦理。
郵局地址匯款：117002遼寧省本溪市溪湖順山科報站   收款人: 王雷
匯款后請用手機短信（13050204739或13941407298）通知，告訴所需技術光盤名稱、編號、數量及收貨人姓名、郵政編碼和詳細地址。（如需網傳請告郵箱地址或QQ號）
單位：遼寧日經咨詢有限公司（技術部）
地址：遼寧省本溪市溪湖順山科報站
聯系人：王雷老師
電  話：0414-2114320   3130161
手  機：13941407298
客服QQ：547978981    824312550   517161662

敬告：本公司已通過華夏鄧白氏資質認證，查看認證信息請點擊：http://fuqiangxx.b2b.hc360.com/shop/mmtdocs.html
貨到付款：辦理貨到付款業務請與QQ：547978981聯系。

本公司經營技術，質量保證，歡迎咨詢洽談。